真空坩埚炉技术参数

     SG2系列坩埚炉分为常规和真空两种。真空坩埚炉主要是由一套密封的腔体和真空系统以及其它组成。真空坩埚炉适用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。中小型机件的散热处理。具有炉温均匀，温控精度高，装载料方便，操作简单易学，生产率高。

     SG2系列坩埚炉炉膛大小根据物料大小设计定制。